PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類(lèi)。真空蒸鍍在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱(chēng)膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。濺射鍍膜利用氣體放電產(chǎn)生氣體電離，其正離子在電場(chǎng)作用下高速轟擊陰極靶體，擊出陰極靶體原子或分子，飛向被鍍基體表面沉積成薄膜。離子鍍膜在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離子化，在氣體離子或蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物蒸鍍在工件上。

PVD涂層（鍍膜）技術(shù)原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其他反應物沉積在工件上。涂層性質(zhì)（如硬度、結構、耐化學(xué)和耐溫性、結合力）可以被jing確地控制。（2）工藝特點(diǎn)：在PVD工藝中的高純度固體涂層材料（金屬如鈦、鉻和鋁）既可通過(guò)加熱或通過(guò)離子轟擊（濺射）來(lái)得到蒸發(fā)。同時(shí)添加反應性氣體（例如氮氣或含碳氣體）；之后形成含金屬蒸氣的復合物，并以高度粘附性薄涂層沉積在工具或零部件上。以恒定速度旋轉固定在幾個(gè)軸上的零件可獲得均勻的涂層厚度。

此外，采用溶劑熱鍍鋅時(shí)，zui常用的ZnCl2與NH4Cl混合水溶液的配比不正確時(shí)，沒(méi)有形成共晶點(diǎn)，特別是在濃度過(guò)高的情況下，在支撐板焊接角縫圓形孔內極易出現夾灰性漏鍍。造成鋅層脫落的主要原因有：表面氧化、有硅化合物、冷扎乳化液太臟、NOF段氧化氣氛及保護氣體lou點(diǎn)太高、空燃比不合理、氫氣流量偏低、爐子有氧滲入，帶鋼入鍋溫度偏低，RWP段爐壓偏低及爐門(mén)吸風(fēng)、NOF段爐溫偏低，油脂蒸發(fā)不盡、鋅鍋鋁含量偏低、機組速度太快、還原不充分、鋅液中停留時(shí)間太短、鍍層偏厚。